自2011年首次报道纳米级HfO2基薄膜的铁电性以来,这种与硅相容的二元氧化物迅速在学术界和工业界引起广泛关注,并持续保持这一趋势。尽管其化学成分看似简单,但氧化铪所支持的铁电物理现象却异常复杂,甚至可与钙钛矿铁电体相媲美。计算研究,尤其是基于第一性原理密度泛函理论(DFT)的研究,显著推进了我们对这些薄膜中铁电性本质的理解。本综述深入探讨了理解铁电铪的计算研究,比较了各种亚稳态极性相,并分析了其稳定化所需的关键因素。氧化铪的复杂性与其结构多晶型、掺杂剂及其电荷补偿氧空位之间的复杂相互作用密切相关,以及畴和畴壁的非常规切换机制,这些机制有时会导致理论预测的矛盾和理论-实验差异。我们还讨论了机器学习辅助分子动力学和相场模拟带来的机遇,这些方法超越了DFT建模,用于探究铁电氧化铪的动力学特性,并解决诸如高矫顽场等紧迫问题。

图1 | 非极性和极性氧化铪相的原子结构。Hf和O原子分别用金色和红色球体表示。a 非极性单斜P21/c。b 非极性正交Pbca。c 极性单斜Pc。d 反极性正交(AO)Pbca。e 极性正交Pca21。f 极性正交Pmn21。g 非极性四方P42/nmc。h 非极性立方P43m。i 极性菱形R3。j 非极性立方Fm3m。

表1 | 不同氧化铪相的DFT晶格参数、相对能量和极化值

图2|外延应变诱导的非极性立方P-43m相向极性菱面体R3m相的相变。a12原子立方晶胞中的P43m。b36原子六方晶胞中的P43m。注意完全松弛的R3m与六方晶胞中的P43m相同。c5%面内压缩应变下的R3m。该应变诱导24.6 μC /cm²的极化,面外层间距d111从2.94A扩展至3.28A。

图3 | 氧化铪的电子显微镜分析。a 从四个不同晶区轴获取的 HAADF -STEM图像,叠加了Hf子晶格。b 使用Dr. Probe146模拟的Pca21和P42/nmc相的 HAADF 图像,展示了Hf子晶格。插图显示了Hf子晶格矩形的长宽比。c 沿薄膜[110]晶区轴观察的 HZO 薄膜的 HAADF -STEM图像。左侧展示了[111]畴的快速傅里叶变换。d 使用SingleCrystal模拟的Pca21、畸变Pca21、R3和R3m结构的电子衍射图样。在面板c所示的选定区域中,将相应的模拟 HAADF -STEM图像叠加在实验图像上。面板a和c分别经许可转载自参考文献27和23。

图4 | Pca21氧化铪的对称模式分析。a 基于立方Fm3m相的声子色散分析,Pca21相的结构起源。不稳定的四方模式(X0 2)与稳定的极性(Γz 15)和反极性(Yz 5)模式的凝聚形成了Pca21相。区中心极性模式 Γz 15与区边界反极性模式Yz 5的等量混合,导致Pca21相中四配位氧原子(间隔原子)与三配位氧原子(FE)的交替层结构。b T→Pbcn→Pca21的应变诱导两步相变。在无应变情况下,Pbcn相是不稳定的。沿四方模型方向施加3%拉伸应变会触发T→Pbcn相变,随后由于极性 Γz 与反极性Yz 5模式之间的耦合作用,再次转变为Pca21相。c 不同氧化铪相之间的对称关系。Pbcn相是Pca21的母相,两者通过软模相关联。图a–c分别经文献2、46、47授权转载。

表2 | 不同氧化铪相在不同表面平面的计算表面能

图5 | 外延应变对氧化铪相稳定性的影响。a 不同HfO2f g 110薄膜与通用基底的外延匹配及随之产生的应变条件。左图展示了四种P21/c和三种Pca21独特生长取向的面内晶格,每种取向都具有独特的晶格参数(Xf,Yf,θf)。通过将这些面内晶格参数归一化为(e Xf ,e Yf ,θf),这些薄膜在通用基底(e Xs,e Ys,θs)上施加的应变条件(εX ,εY ,γ)取决于生长取向和晶体对称性。由于基底与薄膜之间的不匹配,可能产生正向和剪切应变。b 在001 f g和111 f g取向下通过 LME 生长实现的各向同性外延条件下氧化铪薄膜的热力学稳定性。c 在(001)-和(111)-取向的 YSZ 基底上沉积的 HZO 外延薄膜中M和Pca21相选择性生长的实验验证。图a和b经参考文献24授权转载。图c经参考文献79授权转载。

图6 | 氧空位对氧化铪铁电性起源的影响。a 电荷中性氧空位(V0O)对相稳定性的冲击。12.5 f.u.%的高V0O浓度不足以使铁电相(f)比单斜相(m)更稳定。b 从M相的两种构型开始的相变,每种构型的V0O浓度均为12.5 f.u.%,且具有不同的V0O排列方式。c 电荷态对氧空位扩散势垒的影响。d V2O þ 促进的结构多晶型动力学。T相的两种不同构型,其中一对V2O þ 沿a轴和c轴排列(分别标记为Ta和Tc),显示出截然不同的热力学稳定性和多晶型动力学。V2O þ 的存在促进了T→Pca21(PO)相变并抑制了T→M相变。涉及含V2O þ 的氧化铪多晶型相变网络表明,V2O þ 可同时激活非极性-极性相变和极性-非极性相变。图a-d分别经引用文献86、87、89、17授权转载。

图7 | 掺杂剂与缺陷复合物对氧化铪相稳定性的效应。a 二价(Ca、Sr、Ba)和三价(Y、La、Gd)掺杂剂存在下,适当电荷中和氧空位的相稳定性。此处P-O1、P-O2和OA分别指Pca21、Pmn21和Pbca。b 电子补偿XHf(上)、混合补偿XHfVO(中)和离子补偿(2XHf)VO(下)存在下的相稳定性,其中X = Al、Y和La。标记f和o分别对应Pca21和Pbca。c 四价(C、Si、Ge、Ti、Sn、Zr、Ce)掺杂下的相稳定性。Si掺杂显著稳定了P42/nmc相(t),优于Pbca(o)和Pca21(p-o)相。图a–c经许可转载自文献99、101、103。

8 | 氧化铪多晶型的X2模式匹配与相变路径。a T相中X2模式的示意图(左)及T相与Pca21相之间具有保守和反向X2模式的相变路径(右)。b 通过 VCNEB 获得的氧化铪不同相之间的最低能量路径。从T相到反极性Pca相的转变需要克服比T→Pca21和T→M更大的势垒。经参考文献17许可转载。

图9 | Pca21氧化铪中的双值剩余极化与单值压电响应。a Pca21相中X2模式的示意图(左)以及由相反电场E驱动的内移(SI)和跨移(SA)切换路径(右)。底部面板分别展示了SI-1、SI-2和SA的DFT MEPs,以及随场强(jEj)变化的切换势垒。我们注意到,在参考文献109的图1e中,该图绘制了势垒与jEj的关系,漏掉了场强的4倍因子。临界切换场(将势垒降至零)范围为8至16 MV/cm,高于有限温度MD模拟估算的值(5–8 MV/cm)。这一结果与预期趋势一致,因为假设均匀切换的DFT计算常会高估临界场125。b 从相同初始构型出发,沿SA和SI-1路径的极化变化(上),对应于两个不同的P E磁滞回线(左下)。应变(η3)随沿z轴施加的电场(E3)变化。d33的符号(η3 -E3曲线的斜率)取决于E3符号的任意选择。经参考文献109许可转载。

图10 | Pca21氧化铪中的畴壁运动。a 四种类型的180°畴壁根据X2模式符号在边界两侧是否保持(I型和II型)或反转(III型和IV型)进行分类。IV型畴壁与反极性Pbca相类似。氧原子根据其x位移方向着色。具有相同颜色氧原子的畴壁表明X2模式发生反转。b Pbca型180°畴壁沿非交叉路径(S:N,如图9中的SI-1型)和交叉路径(S:T,如图9中的SA型)的运动示意图(左),以及氧化铪、 HZO 和二氧化锆中畴壁运动期间的能量变化(右)。(c)(1;1)畴壁(与Pbca型畴壁相同)和(2;0)畴壁(类似于(a)中的II型畴壁)的运动示意图。(2;0)畴壁的运动势垒远低于X2模式反转的Pbca型畴壁(左下),并通过施加拉伸应变可进一步降低(右下)。图a–c经许可转载自文献108、114、111。

图11 | 超越DFT的氧化铪建模。a 通过使用HfxZr1−xO1− δ 的深度势进行的大规模分子动力学模拟揭示了从Pca21相开始的两个明显相变。实心和空心标记分别表示Pca21 → P42/nmc和Pca21 → Pbcn。b 对含有90°尾对尾畴壁的 HZO 薄膜的P–V滞后相场建模。图a和b分别经引用文献135、53授权转载。
模拟方法:采用密度泛函理论(DFT) 计算不同HfO₂多晶型的形成能、晶格参数和自发极化。
关键发现:
单斜相(M, P2₁/c)是块体HfO₂的基态,而铁电正交相(Pca2₁)是亚稳态(能量高约84 meV/f.u.)。
四方相(T, P4₂/nmc)是高温相,可作为极性相的前驱体。
菱形相(R3m, R3)需在巨大应变下才能极化,实际中难以稳定存在。
意义:DFT计算解释了实验中观察到的多相共存现象,并确认Pca2₁是最可能的铁电相。
模拟方法:DFT计算结合可变晶胞NEB方法,研究双轴应变对相稳定性的影响。
关键发现:
压缩应变(>2.5%)可使Pca2₁相能量低于M相。
剪切应变可触发T→Pmn2₁相变,提供另一种铁电路径。
衬底晶向(如{110}和{111})通过不同的应变张量影响相稳定性。
意义:应变是调控HfO₂薄膜铁电性的关键外因,指导了外延生长设计。
模拟方法:DFT计算不同电荷态氧空位(V_O^0, V_O^{2+})的形成能和扩散势垒。
关键发现:
中性氧空位(V_O^0)扩散势垒高(>2.4 eV),难以迁移。
双正电氧空位(V_O^{2+})势垒低(<1 eV),可显著加速相变动力学。
V_O^{2+}充当"催化剂",促进非极性相(如T相)向极性相(Pca2₁)转变。
意义:解释了p型掺杂(如Y, La)增强铁电性的实验现象,因掺杂引入V_O^{2+}以维持电荷中性。
模拟方法:高通量DFT扫描40余种掺杂元素(如Ca, Sr, La, Y)对相图的影响。
关键发现:
受体掺杂(如La³⁺, Y³⁺)通过产生V_O^{2+}降低Pca2₁相的能量。
四价掺杂(如Si, Ti)主要稳定T相,但对Pca2₁相稳定作用弱。
掺杂剂的离子半径和电负性影响与氧的键合强度,从而调制相稳定性。
意义:为实验中选择掺杂元素提供了理论依据,揭示了"掺杂-空位"协同效应。
模拟方法:DFT结合NEB方法计算极化翻转的能垒路径。
关键发现:
Shift-Inside (SI)路径:氧原子在Hf平面内移动,能垒较低(0.22–0.39 eV)。
Shift-Across (SA)路径:氧原子跨越Hf平面,能垒较高(0.79 eV)。
双路径导致双值剩余极化(P_SI = –0.5 C/m², P_SA = 0.7 C/m²)。
意义:解释了HfO₂具有异常高压电系数(d₃₃)和矫顽场的原因。
模拟方法:DFT-NEB计算180°畴壁(如Pbca型畴壁)的运动能垒。
关键发现:
非跨越路径:需翻转X₂模式符号,能垒高(~1.3 eV)。
跨越路径:氧原子跨越Hf平面,能垒较低(0.4–0.5 eV)。
La掺杂可进一步将能垒降至0.4 eV,增强畴壁迁移率。
意义:揭示了畴壁运动是极化切换的速控步,为降低矫顽场提供策略。
模拟方法:使用深度学习势函数(DeePMD) 训练HfO₂的神经网络势,进行大规模分子动力学(MD)模拟。
关键发现:
模拟揭示了Pca2₁→P4₂/nmc(富Zr)和Pca2₁→Pbcn(富Hf)两种相变路径。
在有限温度下,极化切换涉及氧离子的协同迁移。
电场可诱导超高铁氧离子迁移率,揭示类Thouless泵浦行为。
意义:DeePMD在保持DFT精度的同时,将模拟尺度扩展到纳米级和纳秒级,捕获了动力学效应。
模拟方法:基于Ginzburg-Landau理论的相场模拟,参数由DFT和实验标定。
关键发现:
90°尾-尾畴壁可自发运动,即使无外电场也会导致唤醒效应。
晶粒形貌和织构可优化铁电性能(如降低矫顽场)。
相场模型复现了实验P-E滞后回线,并预测了应变梯度效应。
意义:连接了原子尺度机制与器件尺度性能,为多晶薄膜设计提供指导。
多尺度覆盖:
电子尺度:DFT揭示电子结构、极化起源和能垒。
原子尺度:MD模拟相变动力学和离子迁移。
介观尺度:相场模拟畴结构演化与器件性能关联。
机制创新:
提出氧位移主导的铁电性,区别于钙钛矿的阳离子位移。
发现双路径极化切换和双值极化状态。
阐明带电氧空位作为相变"催化剂"的角色。
实验指导:
预测应变、掺杂、空位对铁电相的稳定作用。
解释唤醒效应、疲劳效应等动态现象。
为HfO₂在存储器(如FeRAM, FeFET)中的应用提供理论基石。
方法演进:
从静态DFT到动态MD、机器学习势函数,提升模拟效率与精度。
多方法耦合(DFT+MD+相场)成为解决复杂材料问题的趋势。
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标题:Progress in computational understanding of ferroelectric mechanisms in HfO2
期刊:npj Computational Materials
网址:https://doi.org/10.1038/s41524-024-01352-0
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